真空离子镀膜的定义、原理、特点

　　1.真空离子镀膜的定义∶

　　在真空条件下，利用气体放电使气体或蒸发物质离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时，把蒸发物或其反应物蒸镀在基片上。

　　离子镀把辉光放电、等离子体技术与真空蒸发镀膜技术结合在一起

　　2.真空离子镀膜的特点∶

　　(1)镀层附着性能好,膜层不易脱落

　　(2)绕镀性好，改善了表面的覆盖度

　　(3)镀层质量好

　　(4)沉积速率高,成膜速度快

　　(5)镀膜所适用的基体材料与膜材范围广

　　3.真空离子镀膜的原理︰

　　真空离子镀膜是真空蒸发和真空溅射镀膜结合的一种镀膜技术。离子镀的过程是在真空条件下，利用气体放电使工作气体或被蒸发物质(膜材)部分离化，在工作气体离子或者被蒸发物质的离子轰击作用下，把蒸发物质或其反应物沉积在被镀基片表面的过程。